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油性石墨漿料研磨設備是電子材料領域專用設備,采用高速轉定子與研磨介質協同作用。通過撞擊、剪切效應破解石墨團聚,將顆粒細化至亞微米級,確保分散均勻。設備密封性好、可連續運行,適配油性體系,能保障漿料導電穩定性,廣泛應用于導電涂料、電池電極等生產場景。
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油性石墨漿料研磨設備
石墨烯漿料分為兩種,以水為介質分散叫水性,以NMP為介質分散叫油性,石墨烯根據石墨烯原料的不同,一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料,影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多,設備的選型,分散劑的使用,固含量的把握
石墨烯有單層、雙層、多層,具體如下:
單層石墨烯(Graphene):指由一層以苯環結構(即六角形蜂巢結構)周期性緊密堆積的碳原子構成的一種二維碳材料。
雙層石墨烯(Bilayer or double-layer graphene):指由兩層以苯環結構(即六角形蜂巢結構)周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式(包括AB堆垛,AA堆垛,AA‘堆垛等)堆垛構成的一種二維碳材料。
少層石墨烯(Few-layer):指由3-10層以苯環結構(即六角形蜂巢結構)周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式(包括ABC堆垛,ABA堆垛等)堆垛構成的一種二維碳材料。
多層或厚層石墨烯(multi-layer graphene):指厚度在10層以上10nm以下苯環結構(即六角形蜂巢結構)周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式(包括ABC堆垛,ABA堆垛等)堆垛構成的一種二維碳材料。
石墨烯(Graphenes):是一種二維碳材料,是單層石墨烯、雙層石墨烯和多層石墨烯的統稱。
石墨烯主要制備方法:制備石墨烯常見的方法為機械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長法和化學氣相沉積法(CVD)。1.機械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對運動,得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡單,得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結構,但是得到的片層小,生產效率低。
墨層之間的間距,再通過物理方法將其分離,***后通過化學法還原,得到石墨烯的方法。這種方法操作簡單,產量高,目前國內使用氧化,還原法制作石墨烯漿料的,如:寧波墨稀、東莞鴻納、第六元素等企業,3.SiC外延法是通過在超高真空的高溫環境下,使硅原子升華脫離材料,剩下的C原子通過自組形式重構,從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質量的石墨烯,但是這種方法對設備要求較高4.CVD也叫氣相沉積法是目前有可能實現工業化制備高質量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質量高的特點,國內用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如 重慶墨稀、常州第六元素等企業
GMD2000研磨機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
油性石墨漿料研磨設備設備選型表:
研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
GMSD2000/4
400
14,000
44
4
DN25/DN15
GMSD2000/5
1000
10,050
11
DN40/DN32
GMSD2000/10
3000
7,500
22
DN80/DN65
GMSD2000/20
8000
4,900
45
GMSD2000/30
20000
2,850
90
DN150/DN125
GMSD2000/50
60000
1,100
110
DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。