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光觸媒高速研磨分散機(jī)，應(yīng)對(duì)納米級(jí)物料的分散，研發(fā)出新型設(shè)備，高剪切研磨分散機(jī)，將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備，納米級(jí)漿料進(jìn)入研磨分散后，先進(jìn)行研磨將團(tuán)聚體打開(kāi)，然后再經(jīng)過(guò)分散工作組，進(jìn)行分散，避免再次團(tuán)聚。

硫酸bei研磨高速分散機(jī)，對(duì)于硫酸bei溶液的生產(chǎn)，目前許多廠家采用國(guó)產(chǎn)膠體磨生產(chǎn)，由于國(guó)產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn)，生產(chǎn)出來(lái)的硫酸bei溶液粒徑一般在20μm左右，而且生產(chǎn)效果很低，需要研磨5-6小時(shí)。而使用SID研磨分散機(jī)進(jìn)行處理，研磨兩遍，粒徑可以細(xì)化到5μm，效果好，效率高。

石蠟粉研磨高速分散機(jī)是石蠟加工核心設(shè)備，專注石蠟粉細(xì)化與分散，適配橡塑、涂料、潤(rùn)滑材料等生產(chǎn)場(chǎng)景。高轉(zhuǎn)速產(chǎn)生強(qiáng)剪切力，實(shí)現(xiàn)石蠟粉高效研磨，窄化粒徑分布。提升粉體分散均勻性，避免團(tuán)聚，保障后續(xù)加工適配性。

陶瓷隔膜漿料研磨分散設(shè)備是制備高性能陶瓷隔膜的核心設(shè)備，主要用于將陶瓷粉體、粘結(jié)劑等物料均勻分散并細(xì)化。

胃溶性包衣高速研磨分散機(jī)GM2000采用了三級(jí)錯(cuò)齒磨頭定轉(zhuǎn)子，磨頭定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.7之間，間隙可通過(guò)調(diào)節(jié)高速研磨機(jī)本身的調(diào)節(jié)柄來(lái)調(diào)節(jié)設(shè)備間隙，在轉(zhuǎn)速不變的情況下，間隙越小，速膠體磨研磨、分散效果會(huì)越好。

納米氧化鋅超細(xì)的分散機(jī)采取直立式設(shè)計(jì)，使物料可以全部進(jìn)入分散腔，符合工藝要求和流體力學(xué)要求，增加其工作效率，z低處出口的出料設(shè)計(jì)符合生產(chǎn)要求，垂直的壓力使得該機(jī)器工作更加穩(wěn)定，同時(shí)便于清潔。